一·小型非自耗真空電弧爐設(shè)備用途：

非自耗真空電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實驗要求精心研發(fā)的產(chǎn)品主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，廣泛應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬、金屬合金等，適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備

二小型非自耗真空電弧爐設(shè)備特點(diǎn)：

1·爐體全不銹鋼設(shè)計，外形美觀大方，不生銹。

2·采用立式圓筒形真空室

3 .配置大口徑觀察窗，可實時觀察爐內(nèi)的冶煉情況

3·冶煉溫度高，溫度可3500度以上，

4·采用電弧熔煉的熔煉電源。

5·采用工作臺式設(shè)計，操作方便

6 配有操作模擬屏，控制數(shù)據(jù)直觀顯示，操作直觀簡潔

7.高真空設(shè)計，真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上

8.自帶冷水機(jī)，到貨即可使用。

9.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

10.水冷銅電極可360度移動，操作靈活，同時水冷坩堝小巧可更換，可定制。

11.帶翻料裝置，克服物料單面熔化不勻的局面

12.帶真空吸鑄鑄造工位

13·規(guī)格多樣可非標(biāo)定制：

14·樣品可以是粉末、絲狀、屑狀及鉆屑、粒狀、條狀、環(huán)狀、泥沙狀等

15·設(shè)備高效性：大部分金屬材料加熱重熔時間為一分鐘或更短

三·配置說明：

1·真空配置： 機(jī)械泵系統(tǒng)5Pa 機(jī)械泵+擴(kuò)散泵系統(tǒng)5×10E-3Pa 機(jī)械泵加分子泵系統(tǒng)5.0*10-4pa

2·電源配置：4~80KW 根據(jù)熔煉容量

3·容量配置：5g-200g

4·溫度范圍：標(biāo)準(zhǔn)0-3000℃

5·坩堝工位：3~7個工位，可非標(biāo)定制

6·可配置真空吸鑄 可選配電磁攪拌功能